副鼻腔底挙上術とインプラント即時埋入術を生体材料なしで同時に行う：テクニカルノート

Simultaneous sinus elevation and immediate implant placement without biomaterial: a technical note.

抄録

サイナス・フロア・エレベーションは、インプラント埋入前に上顎後 方の骨量を増大させるための、最も信頼性が高く予測可能な手技の1つとし て広く考えられている。特に残存骨の高さが限られている場合、ラテラルウィンドウテクニックがゴールドスタンダードとされることが多い。従来、上顎後部の重度の垂直性欠損には、まず生体材料で副鼻腔膜を隆起させ、その後、インプラント埋入のために2回目の手術を行うという、2段階のアプローチが必要であった。この論文では、側方サイナスリフト法に対する革新的なアプローチを紹介し、残存骨の高さが5mm以下の部位にインプラントを同時に埋入することを可能にする。この独創的な一段階手術法は、副鼻腔への生体材料の移植を伴わないという点で興味深い。その主な目的は、安全性と予知性を高め、術後感染のリスクを低減することである。しかし、十分な一次安定性を備えた理想的なインプラント埋入位置を達成することが、この方法の実行可能性にとって極めて重要であることを強調しておく必要がある。

Sinus floor elevation is widely considered as one of the most reliable and predictable procedures for augmenting posterior maxillary bone volume before implant placement. The lateral window technique is often described as the gold standard, especially when dealing with limited residual bone height. Traditionally, severe vertical defects in the posterior maxilla required a two-stage approach: first elevating the sinus membrane with biomaterial, followed by a second surgery for implant placement. This article introduces an innovative approach to the lateral sinus lift procedure, enabling simultaneous implant placement in sites with less than 5mm of remaining bone height. This original one-stage surgical approach is interesting because it does not involve grafting of any biomaterial into the sinus. Its main objectives are to enhance safety and predictability while reducing the risk of post-operative infections. However, it's essential to emphasize that achieving an ideal implant position with adequate primary stability is crucial for its viability.