膜穿孔を伴わない副鼻腔内へのインプラント体全量の移動とその後のオッセオインテグレーション：症例報告

Displacement of the full body of a dental implant into the sinus space without membrane perforation and subsequent osseointegration: a case report.

抄録

上顎洞底残存骨量（RBH）＜4mmに対して、オステオトームサイナスリフト（OSFE）とインプラント同時埋入を検討する研究が増えている。多くの研究が良好な臨床結果を報告しているが、この術式に関連する合併症の報告はほとんどない。本稿では、左上後方に1～4mmのRBHを有し、OSFEとバイコンショート®インプラント3本の同時埋入を行った50歳女性患者の症例を紹介する。2回目の手術で1本のインプラントの移動が確認された。このインプラントはピエゾサージェリーにより除去され、インプラント同時埋入OSFEが繰り返され、6ヵ月後に欠損歯が再建された。本症例は、上顎洞底の高度萎縮に対してインプラント同時埋入OSFEは可能であるが、インプラントが変位するリスクがあることを示唆している。

An increasing number of studies have investigated the use of osteotome sinus floor elevation (OSFE) with simultaneous implant placement for maxillary sinus floor residual bone height (RBH) <4 mm. Many studies have reported good clinical results, but very few have reported complications related to this procedure. Here, the case of a 50-year-old female patient with an RBH in the left upper posterior region of 1-4 mm, who underwent OSFE with simultaneous placement of three Bicon short® implants, is described. One of the implants was found to be displaced during the second-stage surgery. The displaced implant was removed using piezosurgery, OSFE with simultaneous implant placement was repeated, and the missing tooth was reconstructed 6 months later. This case suggests that OSFE with simultaneous implant placement is feasible for severely atrophic maxillary sinus floor, but carries a risk of implant displacement.