電子線ホログラフィーにおける干渉と干渉計

Interference and interferometry in electron holography.

• Ken Harada

抄録

本特集「顕微鏡」のホログラフィー編の導入として、電子線ホログラフィーの基礎を概説する。電子線ホログラフィーと干渉計の一般的な原理については、まず光ホログラフィーを用いて、位相分布の測定・解析を行う。次に、光波では実現できない電子波特有の物理現象と電磁場の検出・観測法の原理について述べる。さらに、実用的な電子線ホログラフィーの実現に不可欠な電子波の干渉光学系とその特徴、電子線ホログラムからの位相情報の再構成方法について論じる。なお、電子線ホログラフィーの応用については、本特集号の論文で詳細に議論する予定である。

This paper reviews the basics of electron holography as an introduction of the holography part of this special issue in Microscopy. We discuss the general principle of holography and interferometry regarding measurements and analyses of phase distributions, first using the optical holography. Next, we discuss physical phenomena peculiar to electron waves that cannot be realized by light waves and principles of electromagnetic field detection and observation methods. Furthermore, we discuss the interference optical systems of the electron waves and their features, and methods of reconstruction of the phase information from electron holograms, which are essential for realization of practical electron holography. We note that following this review application of electron holography will be discussed in detail in the papers of this special issue.

© The Author(s) 2020. Published by Oxford University Press on behalf of The Japanese Society of Microscopy.