異なるセラミック材料の表面粗さに及ぼす独自の研磨キットと交換した研磨キットの仕上げ研磨の影響

The Effect of Finishing and Polishing with Proprietary Vs Interchanged Polishing Kits on the Surface Roughness of Different Ceramic Materials.

抄録

目的:

釉薬をかけて研磨したモノリス型セラミック材料の表面粗さを評価し、これを基準として、特定の材料に推奨されるキットと交換可能な研磨キットの両方を用いて調整・研磨した後に比較すること。

PURPOSE: To evaluate the surface roughness of glazed and polished monolithic ceramic materials and to use this as a baseline for comparison after adjustment and polishing with both the recommended kit for the specific materials as well as interchanged polishing kits.

材料と方法:

IPS ZirCAD Prime，IPS E.max，およびVitabloc Mark IIから平板セラミック試料（n=150）を作製した．試料は，その材料に対応した独自の研磨キット，または交換した研磨キットを用いて調整・研磨した．表面粗さは，原子間力顕微鏡（AFM）とプロフィロメーターを用いて客観的に評価した．表面仕上げの主観的評価は，走査型電子顕微鏡（SEM）を用いて行った．各サンプルの重量損失は，デジタルマイクロスケールを用いて研磨前と研磨後に測定した．平均表面粗さと標準偏差は、各セラミックと琢磨機のペアについて計算されました。複数のグループ間でナノメートル単位の平均表面粗さ値を比較するために、要因分散分析が使用されました（α = 0.05）。SEMによる主観的な結果は記述統計として報告された．AFMを使用した場合，研磨機とセラミックの組み合わせはRaとRMSの両値に統計的に有意な影響を与えることが分かった（それぞれp = 0.039と0.010）．

MATERIAL AND METHODS: Flat ceramic specimens (n = 150) were fabricated from IPS ZirCAD Prime, IPS E.max, and Vitabloc Mark II. The specimens were adjusted and polished using either the proprietary polishing kit for the material or interchanged kits. The surface roughness was objectively assessed using Atomic Force Microscopy (AFM) and profilometer. Subjective assessment of surface finish was performed using a scanning electron microscope (SEM). Gravimetric weight loss of each sample was measured before and after polishing using a digital microscale. The mean surface roughness and standard deviation was calculated for each ceramic- polisher pair. A factorial ANOVA was used to compare the mean surface roughness values in nanometers between multiple groups (α = 0.05). The subjective results from the SEM were reported as descriptive statistics RESULTS: The zirconia polishing system produced surfaces with the lowest surface roughness regardless of the ceramic material. The polisher-ceramic combination was found to have a statistically significant effect on both Ra and RMS values when the AFM was used (p = 0.039 and 0.010, respectively).

結論:

ジルコニア研磨システムは、試験したセラミック材料に関係なく、最も低い表面粗さ値をもたらした。また，ジルコニア研磨装置は，使用したセラミック材料に関係なく，重大な重量減少をもたらさなかった．

CONCLUSION: The zirconia polishing system resulted in the lowest surface roughness values regardless of ceramic materials tested. The zirconia polishing system also did not result in significant gravimetric weight loss regardless of the ceramic material used.