口臭に対するレモン精油の効果

Effect of lemon essential oil on halitosis.

抄録

目的:

口臭を有する患者の唾液中の細菌および揮発性硫黄化合物（VSC）産生に対するレモン精油（LEO）の効果を評価すること。

OBJECTIVES: To evaluate the effect of lemon essential oil (LEO) on salivary bacteria and volatile sulfur compound (VSC) production of patients with halitosis.

材料および方法:

口臭患者5名の唾液を採取し、異なる濃度（0.563～9mg/ml）のLEOを添加した後、唾液細菌の増殖、バイオフィルムの形成、VSCの生成を検出し、細菌の増殖とVSC生成に対するLEOの異なる濃度の差を比較する。48名のボランティアを無作為に4群に分けた。LEO、塩化セチルピリジニウム（CPC）、クロルヘキシジン（CHX）、過酸化水素（H O）でうがいした後、30、45、60、90、120分後のVSC生成とpH値の変化を個別に測定し、グループ内の異なる時点の差を比較する。

MATERIALS AND METHODS: Saliva of five patients with halitosis was collected, after adding different concentrations (0.563-9 mg/ml) of LEO, detecting the growth of salivary bacteria, the formation of biofilm, and VSC production, and compare the difference of different concentrations of LEO on bacterial growth and VSC production. 48 volunteers were randomly divided into 4 groups. After gargling with LEO, cetylpyridinium chloride (CPC), chlorhexidine (CHX), and hydrogen peroxide (H O ) separately measure changes of VSC production and pH values at 30, 45, 60, 90, and 120 min and then compare the differences at different time points within group.

結果:

陰性対照群と比較して、LEOの亜抑制濃度（0.563-2.25mg/ml）下では、LEO群の唾液腺細菌のバイオフィルム形成とVSC産生は有意に抑制された（p<0.05）。また，LEOで60分間うがいを行った後，ベースライン時と比較して，被験者のVSC産生量は減少した（p<0.05）．また、LEOによるうがい後、pH値は30分で有意に上昇し、120分後にはベースラインに戻った（p<0.05）。

RESULTS: Compared with the negative control group, under subinhibitory concentrations of LEO (0.563-2.25 mg/ml), the biofilm formation and VSC production of salivary bacteria in LEO group were significantly inhibited (p < 0.05). Compared with the baseline, the VSC production of subjects decreased after rinsing with the LEO in 60 min (p < 0.05). After gargling with LEO, the pH value rose significantly in 30 min and reverted to the baseline level at 120 min (p < 0.05).

結論:

レモン精油は、口臭を有する患者の唾液細菌の増殖を抑制し、VSCの産生を減少させることができる。

CONCLUSIONS: Lemon essential oil can inhibit the growth of salivary bacteria and reduce VSC production of patients with halitosis.